布图设计权与著作权的比较

　　布图设计权与著作权内容的相似与不同是由布图设计与作品在特性上的同异所决定的。
　　著作权包括人身权和财产权，就其人身权而言，一般包括署名权，发表权、修改权，保护作品完整权等。由于布图设计的人身性极弱，故人身权在布图设计权中所占比重也很小，最多只包含一个署名权而已。而其他人身权对布图设计权人来讲并无太大意义，故各国及国际公约均未规定;即使是署名问题，多数国家只是将其与布图设计标记一起作为选择性规范予以规定的。如美国法中规定可以将权利人姓名与权利标记M一同标在掩模或芯片产品上。欧共体指令中亦有类似规定，只是标记为T.在财产权方面，布图设计权人所享有的最重要的权利是复制权，它与著作权中的复制权极为相似。世界知识产权组织的条约规定，未经布图设计权人许可，不得复制受保护的布图设计的全部或者其任何部分。美国法中还具体规定了复制包括光学、电子学或者其他任何方法的复制。这自然也包括了著作权法中所规定的各种复制形式。布图设计与作品之所以在复制权上发生竞合，究其根源还在于二者具有相同的可复制性。复制权是著作财产权中最重要的权能，对布图设计权而言更是如此。布图设计权中其他一切权利都是从复制权中衍生而来。世界知识产权组织条约规定，布图设计权人有权禁止或许可为商业目的进口、销售布图设计 或含有布图设计的集成电路，这里的“进口‘、”销售“行为都是以复制他人布图设计为前提的。至于著作权中的表演、播放等项权利，对布图设计则无从谈起，这也是由于布图设计与作品使用方式不同所致。
　　在著作权珐中有关于合理使用、法定许可，甚或强制许可等规定。同样，在有关集成电路保护法中也有类似的权利限制性规定。甚至于某些方面的限制比著作权法更为严格，如关于反向工程的规定便是一例。各国法律都承认在合理的限度内实施反向工程不视为侵权。所谓“合理”，包含两个方面：
　　第一，仅仅为教学、评价，研究布图设计中的概念。技术、或者布图设计中采用的电路，逻辑，组织结构而复制他人布图设计的不视为侵权。这种行为的目的必须是非商业性的，这与著作权法中的合理使用非常相似。第二，将分析、评价结果应用于为销售而制作的具有独创性的布图设计之中的行为也不视为侵权。这一点比著作权法中的合理使用走得更远，依照著作权法这种行为属于侵权行为。之所以要对布图设计权作出这种限制，首先是因为反向工程在集成电路发展中起着重要作用。世界各国的半导体厂商无不利用这种方法了解其他厂商的产品发展状况，以便提高自己产品的技术水平。如果简单适用著作权法的规定，对这一行为严格禁止，将会扼制集成电路技术的进步。其次是由于布图设计的表现形式具有非任意性。在一些特殊情况下，设计方法只有一种或几种，如果对这种唯一的或有限的表达形式的布图设计适用著作权法的规定，予以禁止，这本身就是造成一种事实上的思想垄断，这不仅违背著作权法的宗旨，对公众也是不公平的。所以各国都将此作为一种侵权的例外。除此之外各国法律还引人了专利法中权利用尽。善意侵权等限制性规定。
　　在权利产生方式上，各国均受美国的影响。尽管美国著作权法在1976年修改后已不再将登记作为著作权产生的前提，但在集成电路保护方面，仍沿用了原先的规定。只有履行了登记手续后才能享有布图设计专有权，并且布图设计标记将作为受法律保护的初步证据。
综上所述，虽然各国均采用专门立法保护集成电路，但从有关法律的具体规定来看，这实际上是一种以著作权法为基础，结合专利法有关规定的混合型法律。除集成电路以外，著作权理论在计算机软件保护领域中也发挥着重要作用。这种著作权与工业产权的融合，是技术发展和进步的必然。传统 的知识产权法的分工正在被打破。我们相信，技术的革命将导致知识产权理论的更新。
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